大尺寸K玻璃光学元件超声波清洗案例-洁盟清洗设备

大尺寸K玻璃光学元件超声波清洗案例

合作单位：**研究院**中心
清洗工件：大尺寸K玻璃光学元件
设备名称：十二槽超声波清洗设备

设备整体集成了完整的清洗、漂洗、干燥及辅助系统，涵盖超声波清洗、喷淋清洗、超声漂洗、慢拉、红外热风循环干燥、真空干燥、循环过滤系统、自动机械臂、抛动机构、上下料推车、PLC程序控制系统、FFU净化系统、抽风装置、预热水箱等核心部件，实现从工件上料、清洗、漂洗到干燥、下料的全自动化流程，大幅提升清洗效率。

一、超声波清洗配置
清洗槽（碱性清洗剂）
配备7频复频超声波清洗，通过不同频率的协同，形成更均匀的空化，确保清洗均匀性的同时保护光学元件表面洁净度。
清洗槽（中性清洗剂）
配备高频兆声波清洗，可实现分子层级别的精密清洗，能够有效去除光学元件表面附着的亚微米级颗粒杂质。
超声波漂洗槽
设5个超声波漂洗槽，依次配备中高频到高频超声波清洗，通过梯度频率的漂洗工艺，逐步去除光学元件表面残留的清洗液和微小杂质，满足科研级高洁净度的清洗要求。

二、多尺寸兼容设计
针对多尺寸清洗需求，进行了适配设计，可轻松清洗800*440*85mm的大尺寸K玻璃光学元件，同时兼容其他中小型光学元件，灵活性强，满足不同玻璃元件的清洗需求

三、辅助系统和功能
除核心清洗工艺外，设备配套各类辅助功能进一步保障清洗效果和操作便捷性，包括FFU进化系统、循环过滤系统、PLC控制系统、自动化机械臂与抛动机构等。另外，采用红外热风干燥和真空干燥组合，可快速去除光学元件表面水分，避免水印残留，确保清洗后表面干燥洁净。

合作成效
该套大尺寸K玻璃光学元件超声波清洗设备投入使用后，完美解决了清洗痛点，取得了显著效果，具体如下：

通过多频率协同清洗工艺，彻底去除了K玻璃光学元件表面的抛光粉、油污、微小颗粒等杂质，实现表面无大于0.5µm颗粒、无有机污染且接触角≤5°，清洗后元件表面洁净度达到科研级标准，无划痕、无蚀坑、无水印残留，有效保障了元件的光学性能。

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光学元件清洗 K玻璃清洗

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